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KLA iNano 納米壓痕儀：iNano為壓痕、硬度、劃痕測試和多元化納米級測試等納米級力學測試設(shè)計。iNano能夠測試包括軟質(zhì)高聚物到硬質(zhì)涂層和薄膜等在內(nèi)的各種材料。

F50薄膜厚度測量儀：依靠F50的光譜測量系統(tǒng)，可以簡單且快速地獲得直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r-θ極坐標移動平臺，可以快速的定位所需測試的點并測試厚度，測試非常快速，大約每秒能測試兩點。

電阻率測量儀是KLA薄膜電阻和導電率測繪系統(tǒng)。從半導體制造到實現(xiàn)可穿戴技術(shù)所需的柔性電子產(chǎn)品，薄膜電阻監(jiān)控對于任何使用導電薄膜的行業(yè)都比較重要。

薄膜厚度測量儀薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光學常數(shù)、均勻性、刻蝕量等；薄膜種類：透明及半透明薄膜，常見如氧化物、聚合物甚至空氣。

微米級橫向定位精度自動化薄膜厚度測繪系統(tǒng)集成了先進的光學、電子和機械模塊，可兼用于對無圖形和圖形薄膜（例如微圖形表面、粗糙表面）進行精確測量 ）。

精簡薄膜厚度測量特性分析系統(tǒng)：FR-ES 機型設(shè)計在以較小的占地面積提供涂層表征性能。它廣泛應(yīng)用于各種不同的測量應(yīng)用：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等。